製品
NEMST-TB2012 series
ドラム式プラズマ処理装置
- バレル型真空チャンバー設計。
- 高密度誘導結合プラズマ（ICP）設計：1011 ~1013/cm3。
- プラズマイオンの移動距離が長く、広範囲に到達。
- 多様な反応ガスの選択が可能。極めて低いガス消費量。
- 手動または自動操作モードの選択が可能。
- 操作性に優れたHMI（ヒューマンマシンインタフェース）設計。
- 不規則な形状の製品の処理に対応。
- 多種多様なガスや混合ガスに対応し、最適なパラメータで最高の表面処理性能を達成。
- 物理的反応、化学的反応、および物理・化学同時反応プロセスに適用可能。
- 優れた洗浄効率を実現。
- 極めて高い洗浄均一性。
- ガス消費量を最小限に抑制。
- 特殊形状製品： 各種粉末状、球状、リング状、および不規則形状の電子・非電子部品の表面処理。
- 高精密産業応用： 精密部品の表面処理。
- バイオメディカル分野： 生体医用材料（生醫材料）の表面處理。